Abstrakt
	V galvanostatických podmienkách pri prúdovej hustote jdep= 0.200 A·cm-2 boli pripravené  Ni-P, Ni-Co-P a Ni-W-P vrstvy. Fázové zloženie vrstiev bolo určené rtg. difrakčnou fázovou analýzou a chemické zloženie sa analyzovalo atómovou absorpčnou spektrometriou. Pre charakterizáciu priečnej i povrchovej morfológie vrstiev bola použitá metalografická, stereoskopická a tunelová mikroskopia a taktiež profilograf typu Talysurf. Použitím voltametrickej metódy bolo študované správanie sa vrstiev v procese vylučovania vodíka a kyslíka z 5 mol·dm-3 roztoku KOH. Bolo zistené, že prídavok kobaltu a wolfrámu do Ni-P matrice vedie k tvorbe vrstiev s veľmi vyvinutým povrchom. Takéto vrstvy môžu byť použité pre elektródové materiály v elektrochémii.