|
Počet návštev: 85276138 AMS práve číta: 1
|
|
|
|
|
|
|
Šulek K., Havlík T. |
KYSLÉ OXIDAČNÉ LÚHOVANIE CHALKOPYRITU ZA POMOCI VYSOKOFREKVENČNÉHO INDUKČNÉHO OHREVU |
Abstrakt
Hoci sa intenzívne skúmajú rozličné spôsoby intenzifikácie lúhovania chalkopyritu, napríklad vysokotlaké lúhovanie, použitie činidiel s vysokou hodnotou oxidačného potenciálu, ako peroxid vodíka, alebo ozón, použitie organických rozpúšťadiel síry, intenzívne mletie, bakteriálne lúhovanie a podobne, doteraz sa nepodarilo objaviť jedinú univerzálnu efektívnu metódu pre tento proces. Každý konkrétny proces sa skladá z jednotlivých čiastkových krokov, špeciálne vyvinutých pre dané podmienky. Preto je nutné skúmanie nielen principiálnych pochodov, ale aj technických zariadení a metodík lúhovania, pretože akékoľvek zefektívnenie procesu prináša vzhľadom na veľké množstvá spracovávaných surovín veľký ekonomický efekt.
V prezentovanej práci sa skúma možnosť originálnej myšlienky využitia vysokofrekvenčného indukčného ohrevu pri lúhovaní chalkopyritu v kyslom prostredí chloridu železitého. Podmienkou funkčnosti takéhoto systému je, že ohrievaný materiál musí byť elektricky vodivý, čo lúhovacie médiá ako elektrolyty spĺňajú.
Zloženie lúhovacieho média sa menilo v rozmedzí 0.01 - 1.0 M FeCl3 a 0 - 1 M HCl. Tento spôsob umožňuje veľmi rýchly ohrev rmutu, zabezpečuje intenzívne premiešavanie bez prítomnosti mechanických zariadení, pričom proces prebieha relatívne vysokou rýchlosťou. Dokázal sa vplyv zvyšovania koncentrácie oxidačného činidla a kyslosti prostredia. Pozitívne sa pravdepodobne prejavil aj vplyv vysokoenergetického indukčného poľa na vlastný proces lúhovania.
|
K. s.: |
No 1 (1998), p. 49-54 |
|
|
|
|
|
|